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刚挠结合板的制造流程,每一步都是 “精度考验”

来源:捷配 时间: 2026/02/06 10:03:04 阅读: 47
问:刚挠结合板的制造和传统 PCB 有啥不同?为啥说它的制造流程更复杂?
答:刚挠结合板的制造是 “传统硬板 + 软板制造的融合升级”,复杂点在于 “刚柔两种基材的兼容性处理” 和 “多工序的精度协同”。传统硬板制造只需处理单一 FR-4 基材,软板只需处理 PI 基材,而刚挠结合板要让刚性基材(FR-4)和柔性基材(PI)在层压、钻孔、蚀刻等工序中 “完美配合”,任何一步精度偏差,都会导致分层、断裂、短路,工序数量比传统 PCB 多 30% 以上,精度要求提升 2-3 倍。
其制造流程可分为 8 大核心工序:基材预处理→柔性区电路制作→刚性区电路制作→层压结合→钻孔→沉铜电镀→图形转移与蚀刻→表面处理与成型,每一步都有专属的工艺难点,下面逐一拆解。
 
 
问:第一步基材预处理,要处理哪些内容?为啥这一步是基础?
答:基材预处理的核心是 “让刚柔基材适配后续工序”,主要分 3 部分:
第一,柔性基材(PI)处理:PI 膜表面易吸附油污、灰尘,需通过等离子清洗或碱洗去除,同时对表面进行微蚀粗化,增加与胶层的结合力,避免层压后分层;还要根据设计要求,裁剪成指定尺寸,预留柔性区的弯曲余量。
第二,刚性基材(FR-4)处理:超薄 FR-4(厚度 0.1-0.3mm)易翘曲,需进行烘烤除潮(温度 100-120℃,时间 2-4h),释放内部应力;同时对铜面进行粗化,保证与电路图形的结合力。
第三,胶膜处理:刚柔结合需用专用胶膜(如环氧树脂胶膜),要控制胶膜的厚度均匀性(误差≤5μm),且提前烘烤去除水分,防止层压时产生气泡。
这一步是基础,因为如果基材表面处理不干净、应力未释放,后续层压时会出现气泡、分层,钻孔时会出现孔壁粗糙,直接导致成品报废,行业内这一步的不良率占总不良率的 20% 左右。
 
 
问:柔性区和刚性区的电路制作,分别有什么工艺要点?
答:两者电路制作原理和传统 PCB 类似,但参数控制更严格:
柔性区电路制作:核心是 “耐折性”。首先用激光切割或蚀刻,在 PI 基材的铜箔上制作电路图形,导线宽度最小可达 25μm,需保证导线边缘光滑,无毛刺(毛刺会导致弯曲时应力集中断裂);然后覆盖一层柔性覆盖膜(Coverlay),保护电路,覆盖膜需精准贴合,不能偏移,且要预留焊盘位置,覆盖膜与 PI 的结合力需≥0.8N/mm,避免弯曲时脱落。另外,柔性区电路不能有尖锐拐角,所有拐角需设计成圆弧(半径≥0.2mm),减少应力。
刚性区电路制作:核心是 “精度与支撑性”。采用传统的图形转移工艺,先贴膜、曝光、显影,再蚀刻出电路图形,线宽 / 线距精度需控制在 ±10μm(传统硬板为 ±20μm);刚性区需承载元件,铜箔厚度一般选择 18-35μm,保证电流承载能力;同时要预留与柔性区的连接焊盘,焊盘位置精度需控制在 ±5μm,确保后续层压时电路连通。
 
两者的难点在于 “同步精度”,柔性区和刚性区的连接焊盘必须精准对齐,否则层压后电路断路,这也是刚挠结合板制造的核心难点之一。
 
 
问:层压结合是刚挠结合板的核心工序,具体怎么操作?要控制哪些关键参数?
答:层压结合就是把 “柔性电路层” 和 “刚性电路层” 通过胶膜压合为一体,是决定产品可靠性的关键,工艺步骤分 3 步:
  1. 叠层:按设计的层结构(如 2 刚 1 柔、4 刚 2 柔),依次叠放刚性基材、胶膜、柔性基材、胶膜、刚性基材,叠层时需用定位销保证各层对齐,偏移量≤3μm;
  2. 真空层压:放入真空层压机,先抽真空(真空度≤-0.095MPa)去除层间气泡,再升温加压,温度控制在 160-180℃,压力控制在 15-25kg/cm²,保温保压时间 60-90min,让胶膜充分流动、固化,实现刚柔基材的紧密结合;
  3. 冷却定型:层压后缓慢冷却(降温速率≤2℃/min)至室温,避免快速冷却导致翘曲、分层。
关键参数控制:温度、压力、时间必须精准,温度过低胶膜固化不完全,结合力差;温度过高 PI 基材易老化,柔性区耐折性下降;压力过大易导致胶膜溢出,污染电路;压力过小层间有气泡,分层风险高。行业内这一步的工艺窗口很窄,参数偏差 5% 就可能导致不良。
 
 
问:钻孔工序,刚挠结合板和传统 PCB 有啥区别?激光钻孔为啥是主流?
答:传统 PCB 钻孔多用机械钻头,而刚挠结合板必须以激光钻孔为主、机械钻孔为辅,原因有两点:一是刚柔基材硬度差异大,机械钻头钻孔时,PI 基材易产生毛刺、孔壁粗糙,FR-4 基材易崩边;二是刚挠结合板的孔直径更小(最小 0.1mm),机械钻头无法满足精度需求。
激光钻孔的工艺要点:
  1. 用 CO2 激光或 UV 激光,根据基材类型调整参数,钻孔 PI 时激光能量稍低,避免烧蚀;钻孔 FR-4 时能量稍高,保证孔壁光滑;
  2. 孔位精度控制在 ±3μm,孔径误差≤5μm,孔壁粗糙度≤5μm,保证后续沉铜电镀的均匀性;
  3. 钻孔后需进行等离子清洗,去除孔内的胶渣、碳化物,防止孔内断路。
另外,柔性区的钻孔要避开弯曲区域,避免孔壁在弯曲时开裂,这也是设计和制造需协同的要点。
 
 
问:沉铜电镀、图形蚀刻和表面处理,有哪些特殊要求?
答:沉铜电镀:核心是保证孔内铜层均匀,刚挠结合板的孔壁有 PI 和 FR-4 两种材质,沉铜前需用专用活化剂处理,确保两种材质都能吸附钯离子,沉铜后铜层厚度≥0.5μm,电镀后孔内铜层厚度≥20μm,保证电路导通性和耐折性。
 
图形转移与蚀刻:层压后的整板需再次进行图形转移,制作外层电路,蚀刻时要控制蚀刻速率(1-1.5μm/min),避免过蚀刻导致导线变细,同时要保护柔性区的覆盖膜,防止蚀刻液腐蚀。
表面处理:刚性区需焊接元件,常用沉金、沉锡、电镀镍金工艺,保证焊接可靠性;柔性区无需焊接,只需保留覆盖膜,若有外露焊盘,需用电镀镍金处理,防止氧化。表面处理的厚度需均匀,沉金厚度控制在 0.05-0.1μm,避免影响元件贴装。
 
 
问:最后成型工序,“揭盖” 是什么?为啥是关键步骤?
答:“揭盖” 是刚挠结合板特有的工序,就是把刚性区之间的覆盖胶、多余基材去除,露出柔性区,让柔性区可以自由弯曲。具体操作是用激光切割或机械铣削,沿刚性区边缘精准切割,去除多余部分,揭盖时要控制切割深度,不能损伤柔性区的电路,切割精度需控制在 ±2μm。
 
揭盖的难点在于 “柔性区的保护”,切割时易划伤柔性区的覆盖膜或电路,导致成品报废,行业内这一步的不良率约 15%,需用高精度切割设备和视觉定位系统辅助。
 
    成型后还要进行电气测试(导通、绝缘测试)、弯曲测试(柔性区反复弯曲 500 次以上),合格后才算完成制造,整个流程的良品率比传统 PCB 低 10%-15%,这也是其成本较高的重要原因。

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