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高频PCB制造工艺:从基材到成品的精度把控指南

来源: 时间: 2025/09/16 09:45:00 阅读: 433

高频 PCB 的制造是 “精度与材料的双重考验”—— 普通 PCB 的制造公差(如线宽 ±0.1mm、层厚 ±0.05mm)完全无法满足高频需求, slightest 的工艺偏差都可能导致阻抗超标、信号损耗过大。高频 PCB 制造需重点把控 “基材预处理”“层压工艺”“钻孔与镀铜”“表面处理”“阻抗测试” 五大核心环节,每个环节都有明确的工艺标准与质量要求。

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一、基材预处理:奠定 “低损耗、高稳定” 的基础

高频 PCB 的基材(如 Rogers 4350B、PTFE)与普通 FR-4 差异大,预处理不当会导致层间结合力不足、介电性能波动。预处理需完成 “基材切割”“表面粗糙化”“清洁干燥” 三步。

第一步 “基材切割”:高频基材多为卷状或片状,切割时需控制尺寸精度(公差 ±0.1mm),避免后续层压时出现错位。切割工具需用专用合金刀(如钨钢刀),转速控制在 3000-5000rpm,避免基材因高温变形(PTFE 基材熔点约 327℃,切割温度需低于 100℃)。某厂商切割 Rogers 4350B 时,因转速过高(8000rpm)导致基材边缘碳化,介电常数局部升高 0.2,后续阻抗测试出现偏差;调整转速至 4000rpm 后,碳化问题彻底解决。

第二步 “表面粗糙化”:高频基材(尤其是 PTFE)表面光滑,层压时与粘结片(Prepreg)的结合力差,需通过 “等离子处理” 或 “化学蚀刻” 增加表面粗糙度(Ra=0.2-0.4μm)。等离子处理时,气体选择氧气(活性强),功率 150-200W,时间 30-60 秒,确保基材表面形成微小凹坑,提升粘结力;化学蚀刻则用弱碱性溶液(如 NaOH 溶液,浓度 5%-10%),温度 50-60℃,时间 2-3 分钟,避免过度蚀刻导致基材厚度不均。需注意:表面粗糙度过大(Ra>0.5μm)会增加导体损耗,因此需严格控制。

第三步 “清洁干燥”:预处理后的基材表面可能残留油污、粉尘或水分,需用异丙醇(IPA)擦拭清洁,再放入烘箱干燥(温度 80-100℃,时间 60-90 分钟),确保基材含水量 < 0.1%。水分会导致基材介电常数升高(如 FR-4 吸水后 ε?从 4.4 升至 4.8),增加信号传输损耗,因此干燥环节至关重要。



二、层压工艺:实现 “层间紧密结合,介电均匀”

层压是将多层基材、粘结片、铜箔压合为一体的过程,高频 PCB 层压需严格控制 “温度、压力、时间” 三参数,确保层间无气泡、厚度均匀、介电常数稳定。

高频 PCB 常用 “真空层压工艺”(避免空气残留形成气泡),以 6 层 Rogers 4350B PCB 为例,层压参数如下:

  • 升温阶段:从室温升至 180℃,升温速率 2-3℃/min,避免升温过快导致基材与粘结片收缩不一致;

  • 保温阶段:180℃保温 60-90 分钟,压力 30-50kg/cm2,确保粘结片充分融化,填充层间缝隙;

  • 降温阶段:从 180℃降至 50℃以下,降温速率 1-2℃/min,防止层间应力过大导致 PCB 翘曲(翘曲度需控制在 0.5% 以内,即 300mm×300mm 的 PCB 翘曲≤1.5mm)。

层压时需注意粘结片的选择:高频 PCB 应选用低损耗粘结片(如 Rogers 4450F,tanδ=0.004),避免普通粘结片(tanδ>0.01)增加整体损耗。某 5G 基站 PCB 厂商曾误用普通粘结片,导致成品 PCB 的 tanδ 从 0.0037 升至 0.006,信号传输损耗增加 1dB;更换为低损耗粘结片后,tanδ 恢复至 0.0039。

层压后的质量检测:需用 “超声波扫描显微镜(SAM)” 检查层间是否有气泡(气泡直径 > 0.1mm 即为不合格),用千分尺测量每层厚度(公差 ±0.01mm),确保介电环境均匀。若发现气泡,需拆解分析原因(如压力不足、升温过快),调整参数后重新层压。



三、钻孔与镀铜:减少 “寄生参数,保证导通”

高频 PCB 的钻孔与镀铜需解决 “孔壁光滑度”“镀铜均匀性” 问题,避免过孔引入过多寄生电容、电感,影响信号完整性。

第一步 “钻孔”:高频 PCB 多采用 “激光钻孔” 或 “机械钻孔”,孔径通常为 0.1-0.3mm(微孔)。机械钻孔需用钨钢钻头(直径公差 ±0.005mm),转速 30000-50000rpm,进给速度 50-100mm/min,确保孔壁粗糙度 Ra<1.5μm(粗糙度过大会增加导体损耗)。激光钻孔(适用于 0.1mm 以下微孔)采用 UV 激光(波长 355nm),能量控制在 10-20μJ/pulse,避免激光能量过高导致基材碳化。

钻孔后的 “去钻污”:钻孔过程中会产生树脂残渣(钻污),需用 “碱性高锰酸钾溶液”(浓度 60-80g/L,温度 70-80℃)处理 5-10 分钟,去除孔壁钻污,确保后续镀铜与基材结合紧密。若钻污去除不彻底,会导致镀铜层与孔壁剥离,出现导通不良。

第二步 “镀铜”:高频 PCB 的孔壁镀铜需保证 “厚度均匀、无针孔”,镀铜厚度通常为 18-35μm(根据电流承载需求选择)。采用 “化学镀铜 + 电解镀铜” 两步法:

  • 化学镀铜:在孔壁形成薄铜层(厚度 1-2μm),作为导电基底,镀液温度 40-50℃,时间 15-20 分钟;

  • 电解镀铜:增厚铜层至目标厚度,电流密度 1-2A/dm2,温度 25-30℃,时间 30-60 分钟,确保孔壁铜层厚度偏差 < 10%(如目标 18μm,偏差≤1.8μm)。

镀铜后的检测:用 “金相显微镜” 观察孔壁铜层是否均匀,有无针孔或剥离;用 “四点探针” 测量铜层电阻率(应 < 1.8μΩ?cm,接近纯铜的 1.72μΩ?cm),确保导电性能良好。



四、表面处理:降低 “导体损耗,提升可靠性”

高频 PCB 的表面处理需兼顾 “低损耗” 与 “耐腐蚀性”,常用镀银(Ag)、镀金(Au)或化学镍金(ENIG),避免普通喷锡(HASL)。

  • 镀银:银的导电率高(106% IACS,高于铜的 100%)、表面粗糙度低(Ra<0.1μm),能减少趋肤效应带来的导体损耗,适合中高频场景(1-30GHz)。镀银厚度通常为 3-5μm,需在银层表面涂覆 “防氧化层”(如有机保焊剂 OSP),防止银层氧化发黑(氧化会导致导电率下降,损耗增加)。某 WiFi6 路由器 PCB 采用镀银处理后,5GHz 频段的导体损耗比喷锡降低 0.3dB/m;

  • 镀金:金的化学稳定性高(耐酸碱、抗氧化),适合需要长期可靠性的场景(如航空航天、医疗设备),但导电率低于银(73% IACS),损耗略高。镀金厚度通常为 0.1-0.5μm(薄金),若需焊接,可采用 “厚金”(1-3μm);

  • 化学镍金:镍层(厚度 2-5μm)作为基底,金层(0.05-0.1μm)作为表面层,兼具耐腐蚀性与可焊性,但镍层会增加导体损耗(镍的导电率低,22% IACS),仅适合对可靠性要求高、频率较低(<10GHz)的场景。

表面处理后的检测:用 “台阶仪” 测量镀层厚度,用 “盐雾测试”(中性盐雾,48 小时)验证耐腐蚀性,确保镀层无脱落、生锈。



五、阻抗测试:验证 “设计与制造的一致性”

高频 PCB 制造的最后一步是阻抗测试,需用 “阻抗测试仪”(如安捷伦 E5071C)测量传输线的特性阻抗,确保符合设计要求(通常公差 ±5%)。

测试方法:采用 “TDR(时域反射法)”,向传输线注入阶跃信号,通过反射信号的波形判断阻抗是否均匀。测试点需覆盖 PCB 的不同区域(如边缘、中心、过孔附近),每个区域至少测 3 个点,若某点阻抗偏差超过公差(如设计 50Ω,实测 58Ω),需分析原因(如线宽偏差、层厚不均),并对不合格品进行返修或报废。


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