罗杰斯基材（尤其是 PTFE 系列）的物理化学特性与普通 FR-4 差异显著 —— 表面光滑、熔点高、韧性强，导致其制造工艺（如预处理、层压、钻孔）难度更大。若沿用普通 PCB 的制造工艺，会出现层间分层、孔壁碳化、镀铜剥离等问题，浪费基材成本（罗杰斯基材价格是 FR-4 的 5~10 倍）。

一、基材预处理：解决 “结合力差” 的核心步骤

罗杰斯基材（尤其是 PTFE 系列）表面能低（5880 的表面能为 28mN/m，FR-4 为 45mN/m），层压时与粘结片、铜箔的结合力差，需通过 “表面粗糙化”“清洁干燥” 两步预处理，确保结合力达标（剥离强度≥0.7N/mm，按 IPC 6012 标准）。

1. 表面粗糙化：按基材类型选择工艺

参数：碱性高锰酸钾溶液（浓度 70g/L），温度 75℃，时间 8 分钟；

目的：在基材表面形成微小凹坑（Ra=0.2~0.3μm），增加与粘结片的接触面积；

注意：避免蚀刻过度（Ra>0.4μm），否则会增加导体损耗（10GHz 下损耗增加 0.1dB/cm）。

第一步等离子处理：氧气氛围，功率 200W，真空度 10Pa，时间 60 秒；作用：打破 PTFE 表面的 C-F 键，增加表面活性；

第二步化学蚀刻：钠萘溶液（浓度 5%），室温，时间 3 分钟；作用：在表面形成多孔结构（Ra=0.3~0.4μm），提升结合力；

2. 清洁干燥：避免 “二次污染”

预处理后的罗杰斯基材表面易残留蚀刻液、粉尘，需：

二、层压工艺：控制 “温度压力”，避免气泡与翘曲

罗杰斯基材的层压是制造核心，需解决 “气泡”“翘曲”“介电常数不均” 三大问题，关键在于精准控制 “温度曲线”“压力”“真空度”。

层压难点解决：

三、钻孔与镀铜：避免 “基材损伤” 与 “导通不良”

罗杰斯基材的钻孔与镀铜需解决 “孔壁光滑度”“镀铜结合力” 问题，尤其是 PTFE 基材的韧性强，钻孔易出现毛刺，镀铜易剥离。

1. 钻孔工艺：按基材类型选工具与参数

工具：钨钢钻头（直径公差 ±0.005mm），刃口角度 130°；

参数：转速 40000rpm，进给速度 80mm/min，退刀速度 120mm/min；

目的：确保孔壁粗糙度 Ra<1.5μm，避免镀铜时出现针孔。

工具：UV 激光（波长 355nm）；

参数：能量 15μJ/pulse，频率 50kHz，钻孔深度比基材厚度多 0.02mm（避免钻不透）；

注意：PTFE 的熔点高（327℃），激光能量过高（>20μJ/pulse）会导致孔壁碳化（形成黑色残渣），影响镀铜导通；某厂商用 25μJ/pulse 钻孔，孔壁碳化率达 20%，后来降至 15μJ/pulse，碳化率降至 1%。

2. 去钻污与镀铜：确保 “导通可靠”

参数：氧气 + 四氟化碳混合气体（比例 3:1），功率 150W，时间 30 秒；

目的：去除孔壁钻污，增加镀铜结合力。

化学镀铜：镀液温度 45℃，时间 20 分钟，形成 1~2μm 厚的铜层（导电基底）；

电解镀铜：电流密度 1.5A/dm²，温度 28℃，时间 40 分钟，铜层厚度达 20μm（满足射频信号导通需求）；

检测：用金相显微镜观察孔壁镀铜，确保无针孔、剥离，用四点探针测孔壁电阻（≤50mΩ）。

四、表面处理：适配射频 PCB 的 “低损耗需求”

射频 PCB 的表面处理需避免增加信号损耗，罗杰斯基材的表面处理优先选择 “镀银”“镀金”，而非普通的喷锡（HASL）。

工艺：化学镀银，厚度 5~8μm；

优势：银的导电率高（63S/m，铜为 59S/m），表面粗糙度低（Ra<0.1μm），减少趋肤效应带来的导体损耗；

注意：镀银后需涂覆防氧化层（如有机保焊剂），避免银层氧化（氧化会使损耗增加 0.2dB/cm）。

工艺：电镀金，厚度 1~3μm（薄金，降低成本）；

优势：金的化学稳定性强，无氧化问题，适合长期户外使用；

案例：某卫星通信设备的射频 PCB 用 5800 基材 + 镀金处理，在太空环境（真空、辐射）下工作 5 年，信号损耗无明显变化。

射频 PCB 用罗杰斯基材的制造，需 “针对性调整工艺参数”，围绕基材的特性（表面能、熔点、韧性），解决预处理、层压、钻孔等环节的难点。只有掌握这些特殊工艺，才能制造出合格的罗杰斯 PCB，避免基材浪费，控制生产成本。