厚度一般在 0.1mm-0.3mm,线宽 / 线距最小可达 50μm/50μm,阻抗控制公差为 ±7%,动态弯曲可达 100 万次(曲径 1mm),静态弯折角度达 180°,表面处理有沉金、化金、OSP 等可选。
采用进口纯胶 PI 膜等超薄无胶基材,热膨胀系数匹配 IC,高温下尺寸稳定性好;运用激光盲孔 + 填孔电镀、激光直接成像(LDI)等技术,实现层间精准互联,提升布线自由度;通过 AOI + 飞针 100% 测试等多道检测工序,确保产品质量。
单面软板
结构特点:是结构最简单的软板,只有一层化学蚀刻出的导电图形,通常在 “基材 + 透明胶 + 铜箔”“保护膜 + 透明胶” 这两种原材料的基础上加工而成。绝缘基材一般为聚酰亚胺(PI),也可用聚对苯二甲酸乙二醇酯等。
分类:可分为无覆盖层单面连接、有覆盖层单面连接、无覆盖层双面连接、有覆盖层双面连接四类,其中有覆盖层单面连接的单面软板应用最多、最广泛。
双面软板
结构特点:在绝缘基膜的两面各有一层蚀刻制成的导电图形,增加了单位面积的布线密度。通过过孔结构连接两层铜箔,形成导电通路,两面通常都覆盖有保护膜,以保护导线并指示元件安放的位置。
软板板厚:0.13mm
硬板板厚:0.6-1.6mm
铜厚:0.5oz
线宽线距:≥4mil
表面处理:沉金工艺
厚度:2.0mm
表面处理:沉金
最小孔径:0.25mm
尺寸:220mm*130mm
材料:PI/25um
CU/18um(无胶) FR4
阻焊颜色:CVL黄色
成品铜厚度:35um
厚度:0.23mm
铜厚:0.5oz
表面处理:沉金工艺
尺寸:50X50mm
覆盖膜:黄膜
补强:无补强
厚度:0.13mm
铜厚:0.5oz
表面处理:沉金工艺
尺寸:50X50mm
覆盖膜:黄膜
补强:PI补强